電感耦合等離子體質譜儀ICPMS 8900 加裝氬氧裝置的作用

ICP-MS 8900 加裝 氬-氧混合氣裝置（Ar-O? 反應氣模塊）的核心作用可以概括為“去污、增敏、抗干擾”：

消除碳沉積

有機溶劑或高碳樣品在等離子體中裂解成碳微粒，會沉積在采樣錐、截取錐及離子透鏡表面，導致信號漂移、靈敏度下降。加入少量 O?（通常 5–20 % v/v）可把碳瞬間氧化為 CO/CO? 氣體帶走，有效延長錐口壽命并保持長期穩定性。

打破多原子離子干擾

? 用 O? 作為反應氣，可將諸如 ??Ar12C?、??Ar1?O? 等干擾離子轉化為質量數更高的氧化物或氧簇，從而與待測離子 m/z 錯開，提高 ?2Cr、??Fe 等易受干擾元素的準確度。

? 對半導體級高純試劑、超痕量金屬分析尤其重要，可把背景從 ppt 級降到亞 ppt 級。

提升特定元素靈敏度

某些元素（如 S、P、Si）在純氬模式下電離效率低；引入 O? 后形成 MO? 或 MO?? 產物離子，避開低質量區密集背景，實現更高響應。

擴展樣品類型

允許直接進樣含有機相（甲醇、IPA、酮類）或高 TDS（總溶解固體）樣品，無需額外稀釋或消解；配合 8900 的高鹽接口，可測 25 % TDS 的鹽水或海水

軟件與硬件一體化

8900 的八級桿反應系統（ORS?）內置三路質量流量控制器，可在方法中按時間程序自動切換 Ar、He、O?，實現“無干擾-高靈敏”雙模式同一次運行完成。

一句話總結

加裝氬-氧裝置后，8900 不僅不怕“有機、高鹽、高碳”樣品，還能把傳統難測的 ?2Cr、??Fe、31P、32S 等元素的檢出限再拉低一個數量級，是超痕量金屬、半導體、高純化學品及復雜環境樣品的“標配”升級。