賽默飛DFS 高分辨率磁式氣質聯用儀離子源的

日常維護 ：

• 定期更換耗材 ：根據儀器使用頻率和廠家建議，定期更換離子源內的耗材，如燈絲、repeller 等。通常建議使用約 500 個樣品后，對耗材進行更換，以確保離子源的正常運行和分析結果的準確性。

• 清潔離子源外部 ：在日常使用中，應保持離子源外部的清潔。可以使用干凈的軟布或專用的清潔工具，輕輕擦拭離子源外殼，去除表面的灰塵、污漬等，防止外界污染物對離子源內部造成影響。

深度清洗 ：

• 準備工具和材料 ：清洗 DFS 系統離子源時，需要準備如下的工具和材料，如 4 英寸的不銹鋼網、￠1.5×1mm 的不銹鋼棒、￠0.7×1mm 的鎢絲、直徑 0.5mm 的不銹鋼絲、酒精棉、綢布、橡皮泥等。

• 斷電拆卸 ：首先確保儀器處于斷電狀態，然后打開真空腔，固定離子源鈞輸出端口，依次拆下燈絲、repeller 及離子源各極桿，并編號記錄各部件的安裝位置，以便后續準確安裝還原。

• 初步處理 ：將拆下的各部件放置在鋪有不銹鋼網的實驗盤內，用￠1.5×1mm 的不銹鋼棒剔除各極桿內的污染物，注意剔除方向應順著離子通道走向，輕挑慢剔，避免損傷極桿內壁。

• 細部清潔 ：使用￠0.7×1mm 的鎢絲清除極桿兩端內壁的碳化物，同樣要注意力度和角度，防止刮傷極桿內壁。對于嚴重污染的極桿，可采用自制的直徑 0.5mm 不銹鋼絲彎折成的鋼刷進行清潔，直至將電極內兩頭的碳和污垢清除干凈。

• 清洗與擦拭 ：將離子源主體等部件放置在酒精中進行浸泡清洗，去除表面的油污和殘留物。然后使用綢布包裹橡皮泥對電極桿逐個進行擦拭，進一步清除極桿表面的污染物，使極桿表面光亮、無雜物、無手指印。

• 檢查與組裝 ：清洗完成后，仔細檢查各部件是否清潔無損。將離子源各部件按拆卸時的反方向依次裝配好，檢查是否有松動或錯位的情況，確保各部件安裝正確、緊密。

• 性能測試與優化 ：安裝完成后，開啟儀器，進行性能測試，如檢測標準樣品、監測信噪比等，以確保離子源的性能恢復到良佳狀態。如有必要，可進行相應的優化調整，如重新校準儀器參數等，以獲得理想的分析結果。

以下是一些監測DFS離子源清潔程度的方法：

軟件監測方法

• 原始離子流檢測：通過質譜軟件提取離子的強度變化來評估清潔程度。在離子源清潔過程中，離子流強度會隨之變化，當離子流低于初始值或zui高值的一半時，離子源達到50%清潔；當離子流低于初始值的20%時，達到80%清潔。

• 總離子流圖（TIC）分析：觀察TIC圖的基線變化。若基線較平穩且噪聲較低，說明離子源清潔度較好；若基線起伏較大、毛躁或有異常峰值，可能表示離子源存在污染，需進一步清洗。

• 背景噪聲監測：在未進樣或進樣溶劑時，觀察質譜圖的背景噪聲水平。若背景噪聲高，可能是由于離子源污染或流動相被污染等原因導致，需對離子源進行清洗。

• 調諧報告查看：通過質譜儀的調諧報告，可獲取離子源的實際情況，如離子聚焦電壓、推斥級電壓、EM電壓、質量分離度等參數的變化趨勢。若發現離子源臟污或性能下降，應及時清洗和維護

硬件監測方法

• 離子注入監控：在離子注入反應腔內通入測試離子源，電離成若干不同離子，然后比較不同反應腔的離子束質量譜圖。若某個反應腔的譜圖中雜質離子信號較強或特征峰異常，說明該反應腔內的離子源可能存在污染或不穩定情況。

• 石墨條分析器：在離子篩選管側壁上設有若干相互隔離且并排的石墨條，各石墨條連接控制器并接收單種雜質離子。控制器監測各石墨條上的電流，根據電流是否異常來判斷離子源是否有污染或不穩定，以此評估離子源的清潔程度。

• 終點監測器監測：在清洗離子源過程中，使用終點監測器監測氣相反應性材料或反應物的分壓。當該分壓達到預定的終點值時，表示清洗操作完成，離子源清潔程度達到一定標準。