液質(zhi)聯用氣體的選用根據區域不同，氣體作用不同，選用的氣體自然不同。

一(yi)，離子源區和離子傳(chuan)輸區，這(zhe)個(ge)區域使用(yong)的氣(qi)(qi)(qi)體(ti)就是(shi)幫助離子化的。氣(qi)(qi)(qi)體(ti)當然(ran)是(shi)選(xuan)惰(duo)性(xing)(xing)的為(wei)佳。但是(shi)，選(xuan)氦氣(qi)(qi)(qi)、氬氣(qi)(qi)(qi)太(tai)貴(gui)，所以，大家都會選(xuan)用(yong)氮(dan)氣(qi)(qi)(qi)，雖然(ran)它(ta)不是(shi)完(wan)全惰(duo)性(xing)(xing)，只是(shi)幫助離子化，氮(dan)氣(qi)(qi)(qi)足夠了(le)。這(zhe)時的氮(dan)氣(qi)(qi)(qi)一(yi)般(ban)有三種作用(yong)，

（1）第一(yi)種是幫助離(li)子(zi)化的(de)輔助氣（Auxillary gas），它是最常(chang)使(shi)用的(de)。使(shi)用流(liu)速(su)參見各(ge)公司說明，一(yi)般來(lai)說，液(ye)相流(liu)量(liang)大，就要求(qiu)輔助氣流(liu)速(su)大。非(fei)常(chang)關(guan)鍵的(de)一(yi)點，ESI的(de)流(liu)速(su)開得大，靈敏度反(fan)而會降低。

（2）第(di)二種(zhong)作用是用于抵抗污(wu)染的，比如AB叫簾氣(qi)(qi)（Curtain gas），Thermo叫吹(chui)掃氣(qi)(qi)（Sweep gas），Agilent叫反吹(chui)氣(qi)(qi)。這路氣(qi)(qi)體可以不開(kai)，對臟樣(yang)品管用，對干凈樣(yang)品反而會降低靈敏(min)度。

（3）第三種，是為了加熱（不包括每種儀器）。加熱也是為了提高離子化效率。Waters的儀器以及Thermo的大部分儀器都可以加熱離子源框架，或者離子傳輸管，所以不再加熱氣體。但是，AB的Turbo源、Thermo的H-ESI源，都是在噴針旁邊在用氮氣流加熱，為的是提高離子化效率。Agilent/Bruker的儀器對噴針不加熱，但是它的離子傳輸管不能直接用電路加熱，所以在傳輸管外側就用熱氮氣流加熱。值得注意的是：這種加熱氣體的設計，會導致儀器耗氣量急劇增加（氣體加熱了以后揮發更快）。

二，離子(zi)經過離子(zi)源區、和離子(zi)傳輸系統，完成了離子(zi)化，就進入真空(kong)的分析區。這個區域要求(qiu)用(yong)(yong)絕對的惰性氣(qi)體，以完成碰撞，因為如果還用(yong)(yong)氮氣(qi)，會碰出很多“鬼峰(feng)”。

最先的考慮用氬氣，因為氬氣比氦氣便宜。液質聯用：串聯四極桿、Q-TOF都是用氬氣的。

但是，在(zai)離(li)(li)(li)子(zi)阱(jing)的(de)最初設(she)計時，人們發現(xian)，氦(hai)氣(qi)還有一(yi)種奇妙(miao)的(de)作用，它(ta)可以(yi)緩釋動(dong)能(neng)(neng)，因為離(li)(li)(li)子(zi)剛剛進(jin)入離(li)(li)(li)子(zi)阱(jing)中動(dong)能(neng)(neng)很大，很容易碰(peng)在(zai)阱(jing)壁上就(jiu)“湮(yin)沒”了(le)，而充入一(yi)定的(de)氦(hai)氣(qi)，剛好可以(yi)緩釋動(dong)能(neng)(neng)，使離(li)(li)(li)子(zi)快速穩定在(zai)阱(jing)的(de)中央，這種氣(qi)體叫做“damping gas”。所(suo)以(yi)，在(zai)離(li)(li)(li)子(zi)阱(jing)中選用氦(hai)氣(qi)可謂(wei)一(yi)舉兩得，既緩釋了(le)離(li)(li)(li)子(zi)動(dong)能(neng)(neng)，又做了(le)碰(peng)撞氣(qi)。

三，液質聯用離子源區的氣體不見得非要用高純的氮氣，很多用戶都用普氮。不過，用普氮，過一段時間氣體接入質譜的地方（比如濾膜等）會臟，要常檢查常清洗、更換，否則就把儀器污染了。分析區的氦氣或氬氣要用高純的。